Formation "Caractérisation de couches minces par diffraction et réflectivité de rayons X - De la poudre au monocristal..."

 

 

 

Objectifs:

 

- Utiliser les principes et les techniques de diffraction et de réflectométrie des Rayons X  pour la caractérisation de couches minces.

- Choisir les conditions opératoires ainsi que les types de mesures les mieux adaptés au matériau étudié.

- Interpréter les résultats.

 

 

Contenu:

 

Diffraction des Rayons X

     - Notions indispensables de cristallographie et de diffraction (cristal, maille, loi de Bragg, réseau réciproque, construction d’Ewald, facteur de structure).

     - Microstructure et effets sur la diffraction (mosaïcité, tailles de cristallites, contraintes)

     - Spécificités des couches minces - Types de mesures pertinents dans les cas de couches polycristallines, texturées, monocristallines.

 

Réflectivité des Rayons X

     - Principe et intérêt de la réflectivité spéculaire

     - Diffusion hors de la direction spéculaire

     - Conditions opératoires et limitations instrumentales

 

Durée: 2 jours

 

 

Contact: Stéphanie Pouget ( )

 

Maj : 19/09/2014 (1058)

 

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