Formation "Diffraction Haute Résolution des rayons X sur couches minces et nanostructures"

 

Objectifs:

 

- Utiliser les principes de la diffraction des Rayons X ainsi que les spécificités de la technique haute résolution  pour la caractérisation de couches minces et de nanostructures.

- Choisir les conditions opératoires ainsi que les types de mesures les mieux adaptés au matériau étudié.

- Interpréter les résultats.

 

Contenu:

- Rappels de cristallographie et de diffraction (cristal, maille, loi de Bragg, réseau réciproque, construction d’Ewald, facteur de structure).

- Problématiques couramment rencontrées dans les couches minces épitaxiées (couche relaxée ou contrainte, gradient de paramètre de maille, tailles réduites des cristallites, mosaïcité, désorientation des couches, super- réseaux…) et effets de la microstructure sur la diffraction.

- Spécificités techniques de la haute résolution.

- Identification des conditions opératoires, des types de mesures pertinents.

- Utilisation des différents programmes d’analyses.

 

Durée: 2 jours

 

 

Contact: Edith Bellet-Amalric ( )

 

Maj : 16/09/2014 (1059)

 

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