LES TECHNOLOGIES DE GRAVURE PLASMA : COMMENT CONTRÔLER LA GRAVURE AVEC UNE PRÉCISION ATOMIQUE
Olivier JOUBERT
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique
Vendredi 15/04/2016, 12h30-13h30
Grand amphithéâtre, Maison Minatec

Résumé:
La gravure plasma a accompagné l'évolution de la microélectronique depuis plus de 40 ans. Depuis les premiers réacteurs de gravure RIE ( "Reactif Ion Etching"), développés dans les années 1980, les équipements et les performances des procédés ont profondément évolué. Tous les développements actuels convergent vers un seul et même objectif : structurer la matière avec une précision atomique de manière fiable et reproductible sur de grandes surfaces (ex: substrats de silicium de 300 mm de diamètre). L'exposé sera focalisé sur les évolutions des technologies plasma permettant d'atteindre précision et fiabilité.

Contact : Michel BENINI

 

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